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什么是擴散爐?它有什么用處?
發(fā)布時間:2020-12-07    點擊次數:次   

擴散爐是集成電路生產線前工序的重要工藝設備之一,它的主要用途是對半導體進行摻雜,即在高溫條件下將摻雜材料擴散入硅片,從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布,以便建立起不同的電特性區(qū)域。




雖然某些工藝可以使用離子注入的方法進行摻雜,但是熱擴散仍是*主要、*普遍的摻雜方法。硅的熱氧化作用是使硅片表面在高溫下與氧化劑發(fā)生反應,生長一層二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化(含氫氧合成)兩種,擴散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設備。

擴散爐是半導體集成電路工藝的基礎設備,它與半導體工藝互相依存、互相促進、共同發(fā)展。


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